■２．開催場所 ■米国カリフォルニア州サンフランシスコ■■■■■■■■■■■■■■■■■３．はじめに ■ ■ ■年■月 ■日～ 月■日に米国・サンフランシスコ■■ キーワード：青色半導体レーザ，銅合金，クラッディング ■■■■■■■■■■■■■■にて国際会議■■■■■■■■■■■■■■ ■ ■が■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■ff■■■■■主催で開催された。■■■■■■■■パンデミックにより海外に出向くことが難しい時期が続いたが本年は完全対面式で開催され、貴財団からの助成によりサンフランシスコの地に向かい■■■■■■■■■■■■■ ■ ■■に参加することができた。本会議は■■■■、■■■■、■■■■、■■■■■■■■■■■■の■つの会議に加えて■■■■、■■■■、■■■■■■■■■■■■の■つの展示会も開催され非常に密度の濃い時間を過ごすことができた。主に■■■■の会議及び展示会に参加し、研究内容である「■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■」について講演し多くの技術者と議論することができた。併せて近年の青色半導体レーザの世界の最新の技術動向を収集することができた。以下に会議参加報告を記す。■４．研究発表報告■■本会議では青色半導体レーザのアプリケーションの一つとしてCu-Zn合金の皮膜形成について成果発表を行った。 ［発表概要］■銅は熱伝導性や電気伝導性などに優れているため、自動車産業や電気産業などのさまざまな産業に広く応用されている１）。■また、銅は抗菌性やウイルス不活化性などの優れた性質を持っているため、感染症予防のために多くの人が触れる手すりやドアノブなどへの使用も期待されている。しかし、銅は他の材料に比べて強度が低いため、強度を保ったまま表面にウイルス不活化性という新たな機能を付加するには、表面に銅皮膜を形成するコーティング技術の開発が必要である。そこで積層造形法の一つであるレーザーメタルデポジッション（■■■）に着目して研究を行い、銅への皮膜形成を行なってきた。また純銅は光吸収率が低いため、従来の材料加工用レーザを使用して加工す１．開催日時 ■ ■ ■年■月 ■日～ 月■日■大阪大学■接合科学研究所■レーザプロセス学分野■（ ■ ■年度■国際会議等参加助成■■■■ ■ ■ ■■■■■） ■■特任研究員■東野■律子■るのは困難である。銅の光吸収率は光の波長に大きく依存し、波長が短いほど吸収率が高くなることが知られている２）。■そこで、波長■■■■■■の青色半導体レーザに着目し、高輝度青色ダイオードレーザを用いたマルチビーム型■■■法を開発した。また、青色半導体レーザ搭載■■■システムにより■■■■■■ステンレス鋼上に純銅皮膜形成を実証した３～７）。しかし、銅は空気中での酸化により表面が黒くなりやすいことが課題である８）。そこで銅に亜鉛を添加して耐変色性を向上させた銅合金コーティングを試みた。その結果、レーザの出力密度や速度などの最適条件を設定して銅合金層をコーティングできることが判明した。しかし、それには銅と亜鉛を正確に制御する必要がある。■銅と亜鉛の融点を比較すると、銅は■■■■■℃、亜鉛は■ ■■℃、亜鉛の沸点は■■■■℃であり■亜鉛は純銅よりも融点が低いため、より容易に溶融し、低出力で銅合金皮膜を形成する。■本研究では、異なる重量％の■■■■■粉末を使用して■■■■■■ステンレス鋼上に銅皮膜を形成し、亜鉛濃度の違いによる銅皮膜形成の出力閾値を調査した。その結果亜鉛濃度が多くなることにより、低い出力で皮膜形成できることがわかった。さらに亜鉛の添加量が及ぼす皮膜形成への影響について調査し学会参加者らとディスカッションを行った。■［まとめ］■青色半導体レーザは、銅は勿論のこと銅以外の材料に対しても吸収率が高く材料加工に適したレーザである。しかし他の研究機関では青色半導体レーザ光源に関する発表はなされているがアプリケーションとしての報告はまだ殆どされていないのが現状である。そのような中、世界に先駆けて一足早く青色半導体レーザのアプリケーション技術に着手した。本会議でアプリケーションの一つとして■■■■■合金の皮膜形成についての研究成果を発表・議論することで青色半導体レーザの優位性を世界に向けて発信することができた。様々な分野の研究者が青色半導体レーザを用いた銅合金の皮膜形成について興味を持って質問をして下さり、非常に活発なディスカッションを行うことが出来た。■５．青色半導体レーザ関連技術動向調査報告■■・■■青色半導体レーザ関連会議（■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■より「■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■」）■■本会議では、会議初日に高出力青色半導体レーザに特化したセッションが設けられており、高出力青色半導体レーザを用いた加工技術や青色半導体レーザモジュールにつ− 492 −■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■
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