４．結言謝辞参考文献図８■■■フォトニック結晶共振器の作製に用いた基板の断面構造■■ ■図９■■■フォトニック結晶共振器の顕微■■スペクトル■■ ■作製の基本的なプロセスは、ディスク型共振器と同様に図１の方法を用いる。ディスク型共振器の時と異なる点として、本構造では光禁制帯が可視光帯に現れるため、顕微■■分光評価に用いる発光層の波長を可視光帯にシフトさせる必要がある。この影響により、光電気化学エッチングの工程では、スラブへのレーザ光の吸収と、それによるスラブと犠牲層のエッチング選択比の低下が懸念される。本研究では、犠牲層内部の材料組成に厚み方向の空間変調を加える方法で、エッチング選択比を向上させることを検討した。特に、光吸収時に犠牲層内部で生成されるキャリアが、スラブへ移動することが抑制されることを期待して、超格子の■■■組成をスラブ背面部でわずかに高める（図７）方法を採用した。図８は、アンダーカット後の■■■フォトニック結晶共振器の■■■像である。フォトニック結晶の構造は、■～■■■■■■、■■■～■■ ■である。光電気化学エッチングでは、波長■■■■■■のレーザ光を ■■■で強度変調を行いながら、■■μ■のパワーで■■分間試料に照射した。■■■像では、構造表面に粗さは観測されず、スラブの下地材料だけが選択的に除去されていることがわかる。この結果から、レーザ援用光電気化学エッチング法は、構造が複雑な共振器に対しても高い選択比でアンダーカットが可能であることがわかる。■■分光評価では、図９に示すように、青色帯の量子井戸発光スペクトル上に狭線幅のピークがいくつか観測されている。時間領域差分法の数値解析により得られる共振周波数の計算値（図９破線）と比較すると、測定されたピークの波長は、材料分散の影響の範囲内で概ね理論計算値と一致することが確認されている■■ ■。この結果は、■の異なるフォトニック結晶共振器の光学評価の結果においても同様であり、観測されたピークが作製されたフォトニック結晶共振器における共振現象に起因することを示している。また、最も高い光閉じ込め強度は、最低周波数に位置する基底モードで観測されており、この傾向は、数値解析と一致する。測定で得られた光閉じ込め強度の最大値は■■■■程度であり、この値はこれまで光電気化学エッチングによって作製された同共振器構造としては最高値となっている。これらの結果は、レーザ援用光電気化学エッチング法によって、これまでより高品質なフォトニック結晶構造を中空状の■■■スラブに形成できたことを示している。本研究では、レーザ援用光電気化学エッチングを作製法として新たに用いることで、光回路素子の基本構造となる中空状■■■スラブの高品質化の可能性について検証を行った。同手法により、■■■スラブの下地にある窒化インジウムガリウム材料を選択的に除去することで、従来法より高い可視光の閉じ込め強度を持つ微小共振器を作製できることを明らかにした。レーザ援用光電気化学エッチングが中空状の■■■スラブを高品質に作製する微細加工技術として今後の発展につながることが期待される。本研究の一部を遂行するにあたり、公益財団法人天田財団 ■ ■年度奨励研究助成（若手研究者枠、課題番号■■■ ■ ■ ■■■■ ）を賜りましたことに感謝の意を表します。■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■ ■■■■■■ff ■ ■■■ ■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■ ■■ ■ ■■■ff ■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■ff ■■■■■■■■■■■■■■■■■■ñ■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■é■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■ ■■■■■■ ■■ff ■■■■■■■■■■■■■■■■■■ñ■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■é■■■■■■■■■■é■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■ff ■■ ■■− 423 −
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