４．結言参考文献無電解Ni-Pめっき液中に設置したFe基板へ連続波レーザを用いてレーザ誘起プレーティングを行い，デフォーカス量に対するNi析出物の性状，基板温度，スポット部の輝度分布を評価したところ，以下のことがわかった．レーザ照射部の中央に，直径約200 μmのNi-P析出物が成長し，その周辺部に直径約1 mm範囲に薄いNi-P被膜が形成される．正のデフォーカス範囲において，Ni-P析出物の平均高さは増加するが，デフォーカス量が大きくなるとNi-P析出物の中央部に凹みが形成される．Ni-P薄膜の直径は，デフォーカスに伴うスポット径の変化と相関が見られる．さらに，連続波レーザを用いたレーザ誘起プレーティングにおいて，めっき液中へCBを添加すると，基板温度が低下し，温度分布が一定になるまでに時間がかかる．その結果，Ni析出物の析出速度は遅くなるが，CBを含んだ比較的膜厚が均一なNi析出物を得ることができることが明らかになった．Fig.9Chemical composition and diameter of Ni deposits1)Noboru Morita et al., Journal of the Japan Society for Precision Engineering, Vol. 57 (1991) 2199-22052)上野翔太郎他, 有限要素法による連続派レーザを用いたレーザ誘起プレーティングにおける基盤温度分布の解析, 表面技術協会第146回講演大会, 06C-22, (2022.9)− 299 −
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