■■■■ Fig.3Luminance distributionof laser spotFig.3Luminance distributionof laser spot(a) -1.2 mm ■■■■ Fig.4SEM imagesof Ni depositsgenerated by laser enhanced electroless plating.(a) -1.2 mm ■■■■ Fig. 5Ni–Kαimages of Ni depositsgenerated by laser enhanced electroless plating.(b) 0 mm ■■■■３．実験結果および考察 ■■カーボンブラック（■■）添加レーザ誘起プレーティングの実験ィングの実験条件を示す．Fig. 2に実験装置の構成を示す．波長980 nmの連続発振マルチモードファイバレーザを用い，レーザ出力20 Wのレーザ光を，石英ウィンドウを介し，めっき液に浸漬させた厚さ0.3 mmの鉄基板に60 s照射した．カーボンブラック分散液（大成化工製TWBK-416F，CB径約177 nm）を0 –1.0g/L添加した中高リンタイプの無電解Ni-P液（メルテックス製メルプレートNi-2280LF）を24 ℃に保温し，ポンプを用いて流量0.3 L/minで循環させ，石英ウィンドウ端面（厚さ2 mm）と鉄基板の間（レーザ伝搬長1 mmもしくは3 mm）をめっき液の流液で満たした．■■■レーザースポットのエネルギー分布の影響デフォーカス量による基板裏面最高温度は，基板裏面温度は，焦点距離付近（デフォーカス量0.3 mm）で最大となり，デフォーカス量により低下する．これは，デフォーカスにより，エネルギー密度が低下したためであると考えられる．り，正のデフォーカス距離では，輝度が低下し，検出できるスポット径が小さくなった．析は，走査型電子顕微鏡（SEM）により行い，断面プロファイルは，レーザ顕微鏡で計測した． ■ 基板裏面温度および表面輝度分布の測定レーザーを照射し，Niを析出させる鉄基板は，基板裏面温度の測定のために，裏面に厚さ約3.5 μmの黒色のアクリル塗膜を形成し，単結晶ゲルマニウムウィンドウ（厚さ2 mm）の上に固定した．サーマル顕微鏡（Apiste製FSV-2000，波長域：8 –14μm）を用いて，前記ゲルマニウムウィンドウから，レーザ照射時の基板裏面の温度分布を測定した．温度測定では，流液をイオン交換水とし，レーザ出力を10 Wとした．コリメータレンズとコンデンサレンズの間に偏光ビームスプリッタ（PBS）を設置し，大気中で感光紙へのレーザ照射時の表面輝度分布を，可変型減光フィルター（THORLABS製NDC-50C-4M-B，減光率99.82％）を介し，赤外線カメラ（ARTRAY製ARTCAM-130HP-WOM）で撮影した．輝度分布の測定では，レーザ出力を3.8 Wとした．Table 2に，カーボンブラック添加レーザ誘起プレーテFig. 3に，レーザ照射部の輝度分布を示す．焦点距離でスポット径が約0.8 mmとなり，輝度はデフォーカス時よりも高い．負のデフォーカス距離でスポット径が大きくなFig. 4，Fig. 5に，それぞれNi-P析出物のSEM像およびNi-Kα像を示す．スポット中心の直径約200 μmの範囲にNi析出物, その周辺の直径約1 mm範囲に薄いNiFig.2Schematic illustration of experimental equipment for laser enhanced electroless platingwithCB particles.200 μm(a) -1.2 mm 200 μm200 μm (b) 0 mm 200 μm (b) 0 mm ■■■■− 297 −■■■■ (c)1.2 mm (c)1.2 mm (c)1.2 mm200 μm200 μm
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