,ssendrahaPGnoitatnednionaN 0んどの場合0.02mRa以下であった．ただし，図２の表面SEM像から分かるように，最大で数m程度のドロップレットと考えられる突起物が一部で見られた．図２500℃で製膜した各コーティング表面のSEM像図３(a)ホウ化タンタルコーティングのXRD図３(b)ホウ化ニオブコーティングのXRD図３(c)ホウ化バナジウムコーティングのXRD図３(a)～(c)に，400℃～600℃で製膜したホウ化タンタル，ホウ化ニオブ，ホウ化バナジウムの各コーティングのXRDパターンを示す．ホウ化タンタルコーティングの場合，400℃で製膜したコーティングのXRDパターンには，基板の炭化タングステンに起因する回折ピーク以外は見られない．一方，500℃と600℃で製膜したコーティングのXRDパターンには，27°付近と56°付近に黒丸で示したTaB2(0001)反射と(0002)反射の回折ピークが見られた．これより，製膜温度500℃と600℃の場合に，ホウ化タンタルが結晶化し，結晶方位が配向していることが分かる．ホウ化ニオブコーティングの場合は，ホウ化タンタルコーティングと同様であった．400℃で製膜したコーティングのXRDパターンにはホウ化ニオブの結晶に起因する回折ピークが見られないが，500℃と600℃で製膜したコーティングのXRDパターンには，26°付近と55°付近に青丸で示したNbB2(0001)反射と(0002)反射の回折ピークが見られた．このように，製膜温度500℃と600℃の場合に，ホウ化ニオブも配向して結晶化していることが分かる．一方，ホウ化バナジウムコーティングの場合，製膜温度が500℃と600℃の場合だけでなく400℃で製膜したコーティングのXRDパターンにも29°付近と60°付近に赤丸で示したVB2(0001)反射と(0002)反射の回折ピークが見られた．ホウ化バナジウムの場合も配向して結晶化していたが，ホウ化タンタルやホウ化ニオブと比べて低温で結晶化することが分かった．これらのホウ化物コーティングのナノインデンテーション硬さを図４に示す．各コーティングとも製膜温度に対するナノインデンテーション硬さの明確な依存性は見られなかった．ホウ化タンタルでは30～38GPa，ホウ化ニオブでは30～46GPa，ホウ化バナジウムでは41～47GPaの硬さを示し，ホウ化タンタルとホウ化ニオブコーティングは超硬合金基板と同等，ホウ化バナジウムコーティングは超硬合金基板よりも高い硬さを示した．図４各コーティングのナノインデンテーション硬さ400℃製膜500℃製膜600℃製膜10μm10μm10μmホウ化タンタルホウ化ニオブホウ化バナジウム80604020TaB2NbB2VB2− 207 −
元のページ ../index.html#209