(a)(b)図７(a)幅2mレジスト膜抗菌パターン，(b)ロール円筒面上に光沢ニッケルめっき硬質材料で得た微細パターン． ．微細凹凸パターン付きロールの製作100 cP)をスピン成膜した．潜像付きレジスト図５ (a)圧延ロールと(b)潜像付きレジスト/PVA膜をロール円筒面に貼り付ける工程．図６ 微細凹凸付きローの製作プロセス．図５(a)に示す圧延ロールに，図４に示す微細抗菌パターンを形成した．直径が43mmのロール円筒表面を研磨し，表面粗さを14nmRaまで減少させた．幅2μm，深さ3μmの溝が，Sin波状に長さが3〜16 μmに変化するダイアモンドパターンとなる．図６に微細凹凸パターンの製作プロセスを示す． ①ガラスマスク表面に液体PVAをスピン成膜した．②得られたPVA膜上にレジスト(THMR-iP5700HP ③ガラスマスク裏面より露光し，レジストにパターンを転写し，潜像を形成した．レジスト膜は薄い（約1m）PVA 層を介しつつも，ガラスマスクに密着しているため，良質なパターンが転写できる３）．④潜像付きレジスト/PVA膜をマスクから剥離する．⑤圧延ロール表面にレジスト/PVA膜を貼り付け，真空パックすることで，包装プラスチック袋内を脱気し，レジスト膜をロール円筒面に密着させて熱圧着した．図５(b)に示すように，PVAとレジストの2層からなる膜をロールに巻き付けて熱圧着し，レジストパターンをロール円筒面に転写した．⑥取り出したロール最表面のPVAを水で溶解した．⑦ロール円筒面に残った潜像付きレジストを現像した．⑧電解メッキにより，レジストパターンが抜けた部分に光沢ニッケルめっきを堆積した．⑨残留レジストを有機溶剤により除去した．図７(a)は得られたレジスト抗菌パターンである．コーナが鋭く，アスペクト比の高い構造が得られた．アスペクト比（高さ／幅の比）2.2である．図７(b)は光沢ニッケルを堆積しレジスト膜を除去した後の表面である．上下中心領域はピントが合っているが，上領域は曲面のために像がぼけている．めっき堆積によって，圧延ロール円筒面上に，幅1.97μm，深さ4.19μm，溝のアスペクト比2.1の微細穴パターンが得られた． ■．形状転写得られた圧延ロール上の元形状から，厚さ500μmのPETシートに形状転写したものが図８(a)である．平均で幅1.66μm，高さ1.36μmであり，アスペクト比0.82が得られた．壁面は丸みを帯びた形状である．PETのガラス転移温度は71℃であり，予めPETを80℃に加熱後に室温にて圧延した（所有する圧延ロールが簡易的なもののため，圧延処理については改善点が多いと判断している）．レジスト光沢ニッケルめっき− 197 −(a)(b)
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