レーザプロセッシングレーザプロセッシング− 53 −キーワード連絡先メールアドレスキーワード連絡先メールアドレス［応用分野］東北大学 大学院工学研究科応用化学専攻 助教［応用分野］産業技術総合研究所 マルチマテリアル研究部門 主任研究員AF-2019228-C2奨励研究助成（若手研究者枠）AF-2019229-C2奨励研究助成（若手研究者枠）レーザー加熱レーザー加熱，無容器プロセス，白色蛍光体，準安定相fukushima@aim.che.tohoku.ac.jpレーザー加工，ドライプロセス，高温材料化学気相析出，ジルコニウム炭窒化物，成膜hirokazu-katsui@aist.go.jp福島 潤且井 宏和本研究では、太陽光と同じような発光特性を持つ電荷移動遷移型発光をする W6＋ を用いて、 白色蛍光体の母体として有力な R203-WO3 系 (R は希土類)に着目し、赤色成分を多く含む白色発光特性を持つ蛍光体の開発に挑戦した。レーザー照射を用いたガス浮遊法装置を開発し、レーザーおよびハロゲンランプの最高出力での照射により、2300 ℃程度 (サンプルの吸収効率に依存) まで、約5秒で到達可能な装置を開発できた。本装置を用いて実験を行った結果、共晶組成(La2O3: WO3 = 20mol% : 80 mol%)近傍での仕込み組成において白色蛍光を示すサンプルが得られた。一方で、単一相の合成には至らず、組成分析からも新規相の同定には至らなかった。蛍光を示す準安定相は800 ℃程度まで結晶構造を保持できた。ジルコニウム炭窒化物（ZrCN）は融点が2900 ℃を超える超耐熱材料であり，金属並みの導電性を有する非酸化物セラミックスである．本研究では，レーザーと気相法を組み合わせ，これまで焼結体や薄膜材料に限定されていた材料形態の拡充を可能にする描画やパターニングプロセスの開拓を目指し，集光レーザーを走査しながらCVDによる選択的な成膜技術基盤の構築を目的とした．このために (I) レーザーCVDによるZrCN成膜の把握，(II) 集光レーザー走査型CVD機構・技術の構築，(III) 集光レーザー走査型CVDによるZrCNの線状成膜，の順に技術開発を進めた．レーザー照射下でのアルキルアミド原料を用いたCVDによるZrCN膜の形成・微細組織・構造・成膜速度を明らかにし、新規に構築した集光レーザー走査型CVD機構によりZrCNの線状被膜が形成されることを実証した。無容器レーザプロセッシングによる新奇酸化物系白色蛍光体の創製集光レーザー場での高速反応・気相成長による ジルコニウム炭窒化物直接描画技術の開発
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