５．積層試験■表1■レーザー照射後のシリコーンオイル屈折率図5に分光反射率から解析された(a)Inner屈折率と(b)膜厚の結果を示す．それぞれの横軸は分光反射率計測時の試1 図4■積層試験レーザー照射位置 図5■積層照射による(a)屈折率と(b)膜厚 1 mm432(a) (b) レーザー直径約5mmスではシリコン基板の反射率よりも僅かに低下したが周期的な反射率変化が確認できない．この結果，10,000パルス照射でガラス化されたシリコーンオイルは有機溶剤により除去され，シリコン表面の改質または荒れにより反射率が低下したものと考えられる．パルス数20,000パルス，40,000パルスでは，周期的な反射率変化も確認され，有機溶剤で除去されずにガラス化したシリコーンオイルが存在していることが分かる．これら2つの反射率特性から求められた屈折率，膜厚を表1にまとめた．基板側の屈折率（Inner）はパルス数の増加に従い低下した．また空気側（Outer）については大気に近い屈折率となった．石英ガラスの屈折率は1.46であり，レーザー照射によってガラス化されたシリコーンオイルはポーラス状態であると考えられる．一方，厚さは20,000パルスで一度薄くなったが，40,000パルスで厚くなった．ガラス化することで薄くなることを予想していたが厚くなることは更に解析が必要である．また，照射エネルギー密度を4 mJ/cm2とした場合には，同じ40,000パルスでも洗浄後にガラス化された痕跡は残らなかった．■■と膜厚 パルス数 照射前 積層が可能であることを確認するために，図4に示すように，照射位置を1 mmずつ移動してレーザー照射を行い，屈折率および膜厚を評価した．照射レーザーエネルギー密度は8 mJ/cm2，1回の照射パルス数は20,000パルスで一定とした．基板にはシリコンウェハを使用し，有機溶剤で洗浄した後，シリコーンオイルを約1mスピンコーターにて塗布し，レーザー照射を行った．照射後，有機溶剤にて残留オイルを除去し分光反射率を測定．その後，再度シリコーンオイルを約1 m塗布した後，1 mm照射位置をずらしてレーザー照射を行った．これを4回行い最終の分光反射率を測定した． 料位置を移動することにより一次元の空間分布として示した．1回目照射では屈折率1.2をピークにした凸分布が形成されていることが分かった．その屈折率分布は，2回目照射により最大1.31まで増加し，照射位置を1 mm移動したことによりガラス化した部分の幅も広がった．3回目， 11..4411..3311..2211..11112255000022000000115500001100000055000000− 297 −11回回目目22回回目目33回回目目44回回目目22001155位位置置 [[mmmm]]11552200位位置置 [[mmmm]]225533002255330011回回目目22回回目目33回回目目44回回目目Outer 1.305 20,000 1.059 40,000 1.081 屈折率 膜厚 [nm] Inner 1.424 1168 1.315 956 1.215 1216
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