参考文献 図図６６ （（Si/Ti比比））＝＝ 2ででのの各各N源源供供給給比比でで作作製製ししたた 図図７７ (Si/Ti比比) = 2, (N/Ti比比) = 10ででWC-Co基基板板上上にに 試試料料ににおおけけるるXRD結結果果 作作製製ししたた膜膜ととWC-Co基基板板のの硬硬度度 4. 結言 XPSより全圧1.5, 2.0 Torr, 流量比r = 5.0においてTiC、TiN、TiO2などのTi系化合物の結合が確認された。また、XRDより全圧1.5 Torr、 流量比r = 2.5のときにTi系化合物由来の回折線が確認されたが、XPSスペクトルよりTiは酸化物を形成しており、Cは大部分がC-C結合のアモルファスカーボンである。また、NとTi、Siの結合が観測できなかったことから、N2ガスの大半がプラズマによって分解・化学反応しなかったことが示唆された。作製した膜の硬度は、膜成分である非晶質なTiの酸化物やCの存在により、WC-Coに比べて低い値を示した。 (Si/Ti比) = 2, (N/Ti比) = 10のときに成膜速度が最大となった。また、XRDより(Si/Ti比) = 2, (N/Ti比) = 10のときにSiC(102)の結晶ピークが観測されたが、TiC、TiNのTi系硬質膜の結晶ピークは確認できなかった。XPSスペクトルよりTiは酸化物を形成しており、Cは大部分がC-C結合のアモルファスカーボンである。また、NとTi、Siの結合が観測できなかったことから、N2ガスの大半がプラズマによって分解・化学反応しなかったことが示唆された。 1) Y. Zhu et al., Wear 20, 456-457,1-15, (2020). 2) B. Guimaraes et al., Ceram. Int. 46, 3002-3008, (2020). 3) D. Boing et al., Adv. Manuf. Tech. 106, 5441-5451, (2020). 4) L. von Fieandt et al., Surf. Coat. 324, 373-383, (2018). 5) A. Intemann et al., J. Electrochem. Sci. 140, 3215-3222, (1993). 6) J. P. A. M. Driessen et al., J. Electrochem Sci. 148, 178-184, (2001). 7) Z. Zhang et al., Ceram. Int. 44, 18996-19001, (2020). 8) K. Bobzin, CIRP J. Manuf. Sci. Technol., 18, 1-9, (2017) 9) A. Paseuth et al., Surf. Coat., 291, 54-61 (2016) 10) Y. Guo et al., Surf. Coat., 201, 5240-5243 (2007) 11) Q. He et al., Ceram. Int., 46, 4, 5149-5158 (2020) − 116 −
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