図12．6光束エバネッセント波干渉 (0, 20, 120, 140, 240, 260) 1） T. Jiang, et.al.: Biomimetic superoleophobic surfaces: focusing on their fabrication and applications, J. Mater. Chem. A, 3 (2015), 1811. 2） X. Gao, et.al.: The Dry-Style Antifogging Properties of Mosquito Compound Eyes and Artificial Analogues Prepared by Soft Lithography, Adv, Mater, 19, (2007) 2213. 3） Z. Guo, et.al.: Biomimic from the superhydrophobic plant leaves in nature: Binary structure and unitary structure, Plant Science, 172 (2007), 1103. 図13．8光束エバネッセント波干渉 (0, 30, 90, 120, 180, 210, 7） S. Masui, S. Takahashpi, et.al.: Fabrication of nano/micro dual-periodic structures by multi-beam evanescent wave interference lithography using spatial beats, Optics Express,27-22 (2019), 31522. 2光束4方位入射干渉による結果（図13）については，トポグラフィ像からxy方向に干渉縞が確認できた．これはフーリエ変換面におけるより中心に近い4つの輝点に表れている600 nm程度の干渉縞であり，これは対向角30°の干渉における縞間隔584 nmと一致する．一方，フーリエ変換像について，その外側にも干渉縞を示すと思しき輝点が存在し，これらは約300 nmの間隔であると計算される．これは，対向角60°の干渉条件である302 nmと一致する． ３．結言 5） 梶原, 高橋他：エバネッセント光を利用したナノ光造形法の研究（第2報),精密工学会誌, 73-8 (2007), 934. 6） 鈴木，高橋他：エバネッセント露光型ナノ光造型法に関する研究(第26報)-多光束干渉によるミリオーダ領S polarizationP polarizationS polarizationP polarization5 μm5 μm894 nm870 nm890 nm860 nm870 nm890 nm606 nm311 nm588 nm314 nm605 nm311 nm587 nm314 nm 270, 300)による樹脂硬化物のAFMトポグラフィ像および による樹脂硬化物のAFMトポグラフィ像および 二次元フーリエ変換像 [S偏光入射とP偏光入射] 二次元フーリエ変換像 [S偏光入射とP偏光入射] − 397 −謝 辞 参考文献 生物の持つ機能性表面微細構造などの複雑な微細周期構造の創製を目指して，本研究では，エバネッセント波を多光束で干渉することで生成される複雑微細光強度分布の加工エネルギーへの適用を行った．具体的には，多光束エバネッセント波で生成可能な複雑な微細構造分布を可視化可能な数値シミュレータを構築するとともに，簡単なフィルタ交換だけで全方位多光束エバネッセント波干渉を実現可能な一括制御型マイクロ光造形装置の開発した．実際に光硬化性樹脂に対して露光実験を行い，複数の周期構造が合成された複雑微細周期構造が生成できる7)ことを示した． 本研究を遂行するにあたり，多大なご支援を頂いた公益財団法人 天田財団に心より感謝申し上げます．また東京大学大学院精密工学専攻，鈴木裕貴氏，増井周造氏には多大な貢献をいただいた．この場を借りて感謝申し上げます． 4） Martinez-Anton, J. C.: Surface relief subwavelength gratings by means of total internal reflection evanescent wave interference lithography. Journal of Optics A: Pure and Applied Optics, 8-4 (2006), S213. 域のサブミクロン表面微細構造創製-，2017年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集 (2017),859
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