図8に，高NA対物レンズと空間周波数フィルタによる一括全方位多光束入射の概念図を示す．高NA対物レンズの場合，固体浸対物レンズの屈折率を，樹脂の屈折率よ図7．8光束干渉, （0,30,90,120,180,210,270,300） 図9は，上述の一括全方位多光束入射コンセプトに基づいた全方位多光束エバネッセント波一括制御型マイクロ光造形装置の全体構成図6)ならびに開発装置写真である． 光源には波長488 nmの光励起半導体レーザを用いる．このレーザの線幅は1.5 MHz未満であり，コヒーレンス長換算では200 mである．本研究における干渉造形に対しては十分なコヒーレンス性を持っている．これをシングル図8．空間周波数フィルタによる一括全方位多光束入射 Various filtersPolarizerLens 1FiberObjectiveNitrogen purgePolarization converterXY stageHigh NA Objective lens Lens 2Lens 3CCDLens 4Laser488 nmPhotosensitive resinExposure planeImaging planeof filterBeam splitterMirror− 395 −PhotosensitiveresinObjective lens(NA: 1.65, n: 1.78)3.5 μm(a) S polarizationFilter3.5 μm(b) P polarizationSolidifiedresinCover glassIncident light光学系前半部光学系後半部図9．開発した全方位多光束エバネッセント波一括制御型マイクロ光造形装置 (a) S偏光，(b) P偏光 2・4 全方位多光束エバネッセント波一括制御型マイクロ光造形装置 り大きくすることで，露光面に対して全反射角度となる入射角度の設定が可能となる．この際，対物レンズの後ろ側焦点面における点光源は，露光面において，斜め入射する一光束に対応するため，（臨海角度相当径より外側の）外縁部において，任意位置に複数の点光源を配置することで，全方位からの任意多光束干渉を実現可能である．ダイナミックな光波変調素子を配置することで，多光束干渉の時系列変動制御も可能である．今回は基礎実験として静的な開口フィルタを配置することで任意の全方位多光束エバネッセント波生成を実現し，実際に光硬化性樹脂による微細構造造形を試みた． モード光ファイバに入射し，ファイバの射出光を点光源とみなして光学系に入れる．使用したファイバのコア径に相当するMOD (Mode Field Diameter)は2.5 - 3.4 μmであり，NAは0.12 - 0.14である． 露光機構部
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