助成研究成果報告書Vol32
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− 55 −レーザプロセッシングキーワードキーワード連絡先メールアドレス連絡先メールアドレス[応用分野][応用分野]北見工業大学 工学部 機械工学科 助教AF-2016230奨励研究助成表面改質,デバイス開発レーザー照射,周期的ナノ構造,電子顕微鏡yyoshida@mail.kitami-it.ac.jp吉田 裕レーザー誘起欠陥配列の機構解明ナノ秒パルスレーザー照射によるナノドット形成を伴うレーザー照射欠陥配列制御の研究が進められているが,その形成機構はいまだよく理解されいない.その機構はトップダウンプロセスである光の干渉機構とボトムアッププロセスである自己組織化機構の競合現象であると考えられており,特に光の干渉機構において,レーザー照射時のナノ構造形成には散乱体間で干渉し合う散乱光による影響が示唆されたが,詳細は明らかではない.そこで本研究は電子線描画の利用した高精度なAu細線パターンを準備してレーザー照射を行い,レーザー誘起欠陥配列の形成機構解明を目指すことを目的とし,特にAu細線パターンを散乱体として散乱体間で干渉し合う散乱光による影響を明らかにすることで干渉機構解明を目的とした.さらにAu細線パターン利用により限られた領域に選択的な複合ナノ構造を一括作製することを試みた.

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