３．ピコ秒レーザによる剥離 1064 11 10～500 2 0.4 350 100 20000 5～30 図５ 剥離されたダイヤモンド(211)面で剥離されている（[17]より許諾転載） 2.5 まとめ (1) フェムト秒レーザを対物レンズを用いてダイヤモンド内部で集光して走査し，厚さ15 µmのグラファイト変質層を形成した． (2) 変質層を形成した試料に対し，レーザを再度照射した後に剥離を行い，(111)面，(211)面においては1×1 mmの面積を完全に剥離させた．(100)面においては部分的に剥離させた． 3.1 実験装置・実験試料 レーザ光源には本研究室で作製したモードロック近赤外ピコ秒パルスレーザを用いた．表2にレーザの仕様を示す．レーザ結晶には発振，アンプ共にNd:YVO4結晶を用いた．フォトディテクタで検出したレーザの周波数をDG（ディレイジェネレータ）に経由してAOM（音響光学素子）に入れ，周波数を可変とした．アッテネータには半波長板とPBS（偏向ビームスプリッタ）を用いた．ガリレオ型のエキスパンダを用いることで，レーザ径を制御した． 実験試料には1×1×5 mmのHPHT（高温高圧）ダイヤモンドの(111)面と(211)面が露出した角柱を用いた． 3.2 変質層形成 図図66に実験の模式図を示す．試料をレーザの集光角程度傾けて走査することで，試料表面に生成されるアブレーション痕および先に引いた内部変質へのレーザの干渉を(a) 500 μm (d) 500 μm (b) 500 μm (e) 500 μm 波長 [nm] パルス幅 [ps] 繰り返し周波数 [kHz] 最大出力 [W] 集光レンズ NA 出力 [mW] 繰り返し周波数 [kHz] 走査速度 [µm/s] 走査ピッチ [µm] (c) 10 μm (f) 10 μm 表２ ピコ秒レーザの仕様 表３ ピコ秒レーザ照射条件 図６ レーザ照射方法 - 76 -
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